ダイオキシン類特定施設（水質）の排出基準について
2013年05月01日 | コンテンツ番号 1275
ダイオキシン類特定施設（水質関係）
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1 |
クラフトパルプ、サルファイトパルプ製造用の塩素系漂白施設 |
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カーバイト法アセチレンの製造用のアセチレン洗浄施設 |
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3 |
硫酸カリウム製造用の廃ガス洗浄施設 |
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4 |
アルミナ繊維製造用の廃ガス洗浄施設 |
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5 |
塩化ビニルモノマー製造用の二塩化エチレン洗浄施設 |
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6 |
カプロラクタム製造用（塩化ニトロシルを使用するものに限る。）の硫酸濃縮施設、シクロヘキサン分離施設及び廃ガス洗浄施設 |
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7 |
クロロベンゼン又はジクロロベンゼン製造の水洗施設及び廃ガス洗浄施設 |
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8 |
4-クロロフタル酸水素ナトリウム製造用のろ過施設、乾燥施設、廃ガス洗浄施設 |
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9 |
2・3-ジクロロ-1・4ナフトキノン製造用のろ過施設、廃ガス洗浄施設 |
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10 |
ジオキサジンバイオレット製造用のニトロ化誘導体分離施設・還元誘導体分離施設、ニトロ化誘導体洗浄施設・還元誘導体洗浄施設、ジオキサジンバイオレット洗浄施設、熱風乾燥施設 |
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11 |
アルミニウム又はその合金製造用の焙焼炉、溶解炉又は乾燥炉から発生するガスの廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設 |
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12 |
亜鉛回収（製鋼用電気炉の集じん機により集められたばいじんからの亜鉛の回収に限る。）用の精製施設、廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設 |
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13 |
大気基準適用施設である廃棄物焼却施炉から発生するガスを処理する廃ガス洗浄施設、湿式集じん施設 |
| 大気基準適用施設である廃棄物焼却施炉から生ずる灰の貯留施設で、汚水等を排出するもの。 | |
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14 |
廃ＰＣＢ等又はＰＣＢ処理物の分解施設、洗浄施設及び分離施設 |
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15 |
上記及び下記の施設から排出される下水を処理する下水道終末処理施設 |
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16 |
上記の施設を設置する事業場から排出される水を処理する排水処理施設 |
| 特定施設の種類 | 排出基準(pg-TEQ/m3n) | 備考 | |
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1 |
クラフトパルプ、サルファイトパルプ製造用の塩素系漂白施設 |
10 |
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2 |
カーバイト法アセチレンの製造用のアセチレン洗浄施設 | H15.8.15から適用 | |
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3 |
硫酸カリウム製造用の廃ガス洗浄施設 | H14.12.1から適用 | |
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4 |
アルミナ繊維製造用の廃ガス洗浄施設 | H15.8.15から適用 | |
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5 |
塩化ビニルモノマー製造用の二塩化エチレン洗浄施設 | H13,1.15～H15.1.15まで20 | |
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6 |
カプロラクタム製造用（塩化ニトロシルを使用するものに限る。）の硫酸濃縮施設、シクロヘキサン分離施設及び廃ガス洗浄施設 | H14.12.1から適用 | |
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7 |
クロロベンゼン又はジクロロベンゼン製造の水洗施設及び廃ガス洗浄施設 | H14.12.1から適用 | |
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8 |
4-クロロフタル酸水素ナトリウム製造用のろ過施設、乾燥施設、廃ガス洗浄施設 | H17.1.1から適用 | |
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9 |
2・3-ジクロロ-1・4ナフトキノン製造用のろ過施設、廃ガス洗浄施設 | H17.1.1から適用 | |
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10 |
ジオキサジンバイオレット製造用のニトロ化誘導体分離施設・還元誘導体分離施設、ニトロ化誘導体洗浄施設・還元誘導体洗浄施設、ジオキサジンバイオレット洗浄施設、熱風乾燥施設 | H15.8.15から適用 | |
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11 |
アルミニウム又はその合金製造用の焙焼炉、溶解炉又は乾燥炉から発生するガスの廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設 | H13,1.15～H15.1.15まで20 | |
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12 |
亜鉛回収（製鋼用電気炉の集じん機により集められたばいじんからの亜鉛の回収に限る。）用の精製施設、廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設 | H15.8.15から適用 | |
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13 |
大気基準適用施設である廃棄物焼却施炉から発生するガスを処理する廃ガス洗浄施設、湿式集じん施設 | H13,1.15～H15.1.15まで20 | |
| 大気基準適用施設である廃棄物焼却施炉から生ずる灰の貯留施設で、汚水等を排出するもの。 | H13,1.15～H15.1.15まで20 | ||
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14 |
廃ＰＣＢ等又はＰＣＢ処理物の分解施設、洗浄施設及び分離施設 | ||
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15 |
上記及び下記の施設から排出される下水を処理する下水道終末処理施設 | ||
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16 |
上記の施設を設置する事業場から排出される水を処理する排水処理施設 | ||